イオンビーム

イオンビームとは、イオンを高速加速した結果できる光線状の流れを指します。集束イオンビーム（Focused Ion Beam: FIB）用のイオンビームを発生させるためには、針状のタングステンにガリウム付いた液体金属イオン源(Liquid Metal Ion Source: LMIS)を使います。フィラメントを加熱し、引き出し電極に電圧をかけると先端からイオンビームが発生します。続いて、発生したイオンを、加速器の電場や磁場によって制御し、方向性の整った細い流れにします。

イオンビームの発生装置は、イオン源（イオン銃）、加速部電磁レンズ、偏向部などで構成されています。イオンビームは加速器などを経て、半導体中に不純物注入するイオン注入や、イオンミリングによる表面清浄化、表面加工、表面改質、表面および内部の分析などに用いられます。

イオンビーム輸送は、真空中の電場で加速や減速を行い、磁場（磁界）によって偏向して行います。イオンの質量選別は、磁場でイオンを曲げて行い、エネルギー分析を行う際には、減速電場法、静電場偏向分析法などの方法が用いられます。

松定プレシジョンでは、イオンの引き出しや加速、偏向、集束、グリッド電極用の電源を一体にした製品や個別の用途に利用できる電源機器を取りそろえています。