電子線リソグラフィは電子線加工装置と走査型電子顕微鏡の技術を応用したもので、LSIを制作する際に使用する半導体用レチクルを作るために用いられます。電子線リソグラフィは、電子線描画装置（電子ビーム描画装置）やEB描画装置ともよばれます。
レチクルはフォトマスクともよばれ、電子部品の回路パターンをウェハなどの被転写対象に転写する際の原板として、写真のフィルムのような役割を担います。

電子線リソグラフィでは、電子銃から発射された電子ビーム（Eビーム）を電子レンズで非常に小さなスポットに収束させます。描画パターンに従い、収束させた電子ビームの動きとステージの動きを制御することで描画材料に電子描画を行います。
この電子ビームとステージの制御に、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡の技術が応用されているのです。

電子ビームリソグラフィ装置に必要な電子銃や、電子レンズを動かすためには高精度な高圧電源が必要です。
松定プレシジョンでは電子ビームリソグラフィ装置のための電子銃や電子レンズのための電源をご提案しています。これらの高圧電源は、お客様のご要望に合わせたカスタムも可能です。

• 電子銃
• 電子ビーム
• Eビーム
• 電子描画
• 電子レンズ